Nepřihlášený uživatel
Nacházíte se: VŠCHT Prahakvalab.vscht.cz → Klíčové vybavení → Vysokoteplotní CVD proces
iduzel: 10880
idvazba: 12816
šablona: stranka
čas: 22.11.2017 19:38:58
verze: 3887
uzivatel:
remoteAPIs:
branch: trunk
Obnovit | RAW

Vysokoteplotní CVD proces

Charakteristické vlastnosti:

  • CVD (Chemical Vapor Deposition) proces je universální deposiční zařízení umožňující vytvářet kvalitní vrstvy různých materiálů od vodivých přes polovodivé až po dielektrické v rozmezí tlouštěk od nanometrových po mikrometrové.
  • Součástí aparatury je nezbytné plynové hospodářství a diagnostické vybavení.
  • Požadované CVD depoziční zařízení bude splňovat následující požadavky: možnost přípravy vrstev do vysokých teplot, RF indukčně vyhřívaný reaktor, možnost depozice vrstev s využitím plasmatického výboje, čerpání reaktoru do oblasti vysokého vakua, řízení průtoku plynů, likvidace odpadních plynů, základní diagnostika studia povrchových vlastností vytvářených vrstev.

Účel pořizovaného vybavení:

  • Hlavním účelem pořízení je nutnost zvýšení kvality vědeckovýzkumné činnosti na VŠCHT a navazující výuky v oblasti nanotechnologií.
  • Zařízení bude využíváno hlavně studenty doktorského a magisterského studia, v omezeném počtu i studenty bakalářského studia a to převážně studenty oborů  Nanomateriály, Materiály pro elektroniku, Biomateriály a Výroba léčiv.
  • Studenti těchto velmi perspektivních oborů se seznámí s moderním způsobem přípravy a charakterizace vrstev různých materiálů. Práce na aparatuře tak upevní jejich znalosti získané teoretickým studiem a dále si studenti osvojí práci na špičkovém technologickém zařízení.
  • Přístrojové vybavení posílí možnost pro VŠCHT Praha se zapojit se do nových vědeckovýzkumných projektů a navázat další výzkumné spolupráce s partnery jak v ČR, tak v zahraničí.
Aktualizováno: 2.12.2014 12:38, Autor: Lenka Matějová

A BUDOVA A
B BUDOVA B
C BUDOVA C
VŠCHT Praha
Technická 5
166 28 Praha 6 – Dejvice
IČO: 60461373
DIČ: CZ60461373

Datová schránka: sp4j9ch

Copyright VŠCHT Praha 2014
Za informace odpovídá Oddělení komunikace, technický správce Výpočetní centrum
zobrazit mobilní verzi