iduzel: 10880
idvazba: 12816
šablona: stranka
čas: 28.3.2024 14:25:07
verze: 5351
uzivatel:
remoteAPIs:
branch: trunk
Server: 147.33.89.153
Obnovit |
RAWiduzel: 10880
idvazba: 12816
---Nová url--- (newurl_...)domena: 'kvalab.vscht.cz'
jazyk: 'cs'
url: '/klicove-vybaveni/vysokoteplotni-cvd-proces'
iduzel: 10880
path: 8549/6011/6448/6451/10782/10880
CMS:
Odkaz na newurlCMSbranch: trunk
Obnovit |
RAWVysokoteplotní CVD proces
Charakteristické vlastnosti:
- CVD (Chemical Vapor Deposition) proces je universální deposiční zařízení umožňující vytvářet kvalitní vrstvy různých materiálů od vodivých přes polovodivé až po dielektrické v rozmezí tlouštěk od nanometrových po mikrometrové.
- Součástí aparatury je nezbytné plynové hospodářství a diagnostické vybavení.
- Požadované CVD depoziční zařízení bude splňovat následující požadavky: možnost přípravy vrstev do vysokých teplot, RF indukčně vyhřívaný reaktor, možnost depozice vrstev s využitím plasmatického výboje, čerpání reaktoru do oblasti vysokého vakua, řízení průtoku plynů, likvidace odpadních plynů, základní diagnostika studia povrchových vlastností vytvářených vrstev.
Účel pořizovaného vybavení:
- Hlavním účelem pořízení je nutnost zvýšení kvality vědeckovýzkumné činnosti na VŠCHT a navazující výuky v oblasti nanotechnologií.
- Zařízení bude využíváno hlavně studenty doktorského a magisterského studia, v omezeném počtu i studenty bakalářského studia a to převážně studenty oborů Nanomateriály, Materiály pro elektroniku, Biomateriály a Výroba léčiv.
- Studenti těchto velmi perspektivních oborů se seznámí s moderním způsobem přípravy a charakterizace vrstev různých materiálů. Práce na aparatuře tak upevní jejich znalosti získané teoretickým studiem a dále si studenti osvojí práci na špičkovém technologickém zařízení.
- Přístrojové vybavení posílí možnost pro VŠCHT Praha se zapojit se do nových vědeckovýzkumných projektů a navázat další výzkumné spolupráce s partnery jak v ČR, tak v zahraničí.
Aktualizováno: 2.12.2014 12:38, Autor: