Vysokoteplotní CVD proces

Charakteristické vlastnosti:

• CVD (Chemical Vapor Deposition) proces je universální deposiční zařízení umožňující vytvářet kvalitní vrstvy různých materiálů od vodivých přes polovodivé až po dielektrické v rozmezí tlouštěk od nanometrových po mikrometrové.
• Součástí aparatury je nezbytné plynové hospodářství a diagnostické vybavení.
• Požadované CVD depoziční zařízení bude splňovat následující požadavky: možnost přípravy vrstev do vysokých teplot, RF indukčně vyhřívaný reaktor, možnost depozice vrstev s využitím plasmatického výboje, čerpání reaktoru do oblasti vysokého vakua, řízení průtoku plynů, likvidace odpadních plynů, základní diagnostika studia povrchových vlastností vytvářených vrstev.

Účel pořizovaného vybavení:

• Hlavním účelem pořízení je nutnost zvýšení kvality vědeckovýzkumné činnosti na VŠCHT a navazující výuky v oblasti nanotechnologií.
• Zařízení bude využíváno hlavně studenty doktorského a magisterského studia, v omezeném počtu i studenty bakalářského studia a to převážně studenty oborů  Nanomateriály, Materiály pro elektroniku, Biomateriály a Výroba léčiv.
• Studenti těchto velmi perspektivních oborů se seznámí s moderním způsobem přípravy a charakterizace vrstev různých materiálů. Práce na aparatuře tak upevní jejich znalosti získané teoretickým studiem a dále si studenti osvojí práci na špičkovém technologickém zařízení.
• Přístrojové vybavení posílí možnost pro VŠCHT Praha se zapojit se do nových vědeckovýzkumných projektů a navázat další výzkumné spolupráce s partnery jak v ČR, tak v zahraničí.